Nuevo Resina Mate MA100 eSUN Expandir

Resina Mate MA100 eSUN

eSun eSun

ES-MA100-MATTE

Nuevo

Resina mate de alta precisión eSUN MA100 para impresoras 3D LCD/DLP (405 nm). Diseñada con textura mate suave que disimula las líneas de capa y resalta los detalles más finos. Presenta baja viscosidad, excelente fluidez, facilidad de impresión y un nivel óptimo de flexibilidad y tenacidad para figuras, maquetas y prototipos estéticos.

Más detalles

CARACTERÍSTICAS

Máxima Reproducción de Detalles y Textura Mate Superior

Desarrollada para ofrecer un acabado mate delicado y libre de reflejos que disimula visualmente las capas de impresión. Logra una reproducción fiel de modelos complejos, figuras de acción, figuras de animación y prototipos estéticos.

Excelente Fluidez y Fácil Impresión

Su baja viscosidad le permite fluir rápidamente en el tanque, facilitando el despegue de las capas, reduciendo los tiempos de retracción y minimizando los fallos de impresión.

Equilibrio de Tenacidad y Flexibilidad

Ofrece una ligera flexibilidad que previene la fragilidad extrema en piezas delgadas, aumentando la resistencia durante el desprendimiento de soportes y la manipulación del modelo.

Amplia Compatibilidad

Compatible con impresoras 3D de resina MSLA, LCD y DLP que operen en la longitud de onda de 405 nm (marcas como Elegoo, Anycubic, Creality, Phrozen, Nova3D, entre otras).

INDICACIONES Y APLICACIONES CLAVE

• Modelado de figuras de acción, miniaturas y arte digital.

• Maquetas arquitectónicas y modelos de exhibición estéticos.

• Prototipado rápido de diseño industrial y carcasas con acabado mate.

• Proyectos educativos y de diseño donde se requiera gran detalle sin reflejos plásticos.

RECOMENDACIONES DE USO Y MANTENIMIENTO

  1. Agitar bien el frasco antes de verter en la bandeja/tanque.

  2. Post-procesamiento: Limpiar los modelos impresos sumergiéndolos o lavándolos con Alcohol Isopropílico (IPA) o Etanol durante 2 a 3 minutos.

  3. Retirar los soportes con cuidado y realizar el curado UV posterior según las especificaciones del equipo.

PARÁMETROS DE IMPRESIÓN RECOMENDADOS (Sugeridos para altura de capa de 0.05 mm)

Tiempo de exposición normal: 2.5 s – 5.0 s (dependiendo de la pantalla Mono/Color)

Tiempo de exposición capas inferiores (Bottom): 20 s – 60 s

Capas inferiores (Bottom Layers): 8 capas

Distancia de elevación inferior (Lift distance): 6 – 10 mm

Velocidad de elevación (Lift speed): 60 – 180 mm/min

Velocidad de retracción (Retract speed): 120 – 280 mm/min

ESPECIFICACIONES TÉCNICAS

• Marca: eSUN

• Modelo: MA100 (Matte Resin / Resina Mate)

• Tipo de Tecnología: Impresión 3D Fotosensible MSLA / LCD / DLP (405 nm)

• Propiedad Destacada: Textura mate de alta precisión y baja viscosidad

• Compatibilidad de Longitud de Onda: 405 nm

• Clasificación: Consumible / Resina Mate de Alta Precisión

Tecnología Impresión 3D de Resina Fotosensible (MSLA / LCD / DLP 405 nm)
País de Origen China
Altura 22.5 cm
Anchura 9.5 cm
Profundidad 9.5 cm
Peso 1.1 kg (Peso bruto botella de 1 kg)
Resolución Alta precisión de moldeo con acabado mate sin reflejos
Precisión Alta reproducción de detalles | Acabado mate delicado | Baja viscosidad
Materiales Soportados Resina Líquida Fotosensible a 405 nm
Formato de Salida Figuras de detalle, miniaturas, maquetas y prototipos estéticos
Densidad del Modelo Resina Mate eSUN MA100 | Textura mate suave | Impresión de alta precisión
Campo de Visón Ideal para figuras de colección, prototipos estéticos y maquetas

La marca eSUN está comprometida con la investigación y el desarrollo, la producción y las ventas, y promueve el desarrollo en profundidad de la industria de la impresión 3D. La empresa domina la tecnología de producción de PLA, PCL, ABS, PETG y otros materiales de impresión 3D, que pueden satisfacer diferentes requisitos de los clientes. Los materiales de impresión 3D de eSUN tienen una gama completa, un rendimiento excelente y una amplia aplicación. Son ampliamente utilizados en el diseño de productos, fabricación industrial, tratamiento médico quirúrgico, cultura y arte, educación e investigación científica, etc.